勻膠旋涂?jī)x又稱甩膠機(jī)、勻膠臺(tái)、旋轉(zhuǎn)涂膠機(jī)、旋轉(zhuǎn)涂膜機(jī)、旋轉(zhuǎn)涂層機(jī)、旋轉(zhuǎn)涂布機(jī)、旋轉(zhuǎn)薄膜機(jī)、旋轉(zhuǎn)涂覆儀、旋轉(zhuǎn)涂膜儀、勻膜機(jī)，總的來(lái)說(shuō)，他們?cè)矶际且粯拥模仍诟咚傩D(zhuǎn)的基片上，滴注各類(lèi)膠液，利用離心力使滴在基片上的膠液均勻地涂覆在基片上，厚度視不同膠液和基片間的粘滯系數(shù)而不同，也和旋轉(zhuǎn)速度及時(shí)間有關(guān)。勻膠旋涂?jī)x可用于除半導(dǎo)體外,還有硅片、芯片、基片、導(dǎo)電玻璃及制版等表面涂覆工藝，科研、教學(xué)之用高精度涂敷。影響勻膠效果的因素有勻膠速度、勻膠加速度、控制精度等因素。

  勻膠轉(zhuǎn)速：基片的轉(zhuǎn)速不僅影響到作用于光刻膠的離心力，而且還關(guān)系到緊挨著基片表面空氣的*湍動(dòng)和基片與空氣的相對(duì)運(yùn)動(dòng)速度。光刻膠的終膜厚通常都由勻膠轉(zhuǎn)速所決定。尤其在高速旋轉(zhuǎn)這個(gè)階段，轉(zhuǎn)速±50rpm這樣微小變化就能造成終膜厚產(chǎn)生10%的偏差。膜厚在很大程度上是作用于液體光刻膠上﹑方向朝基片邊緣的剪刀力與影響光刻膠粘度的干燥（溶劑揮發(fā)）速率之間平衡的結(jié)果。隨著光刻膠中溶劑不斷揮發(fā)，粘度越來(lái)越大，直到基片旋轉(zhuǎn)作用于光刻膠的離心力不再能使光刻膠在基片表面移動(dòng)。到這個(gè)點(diǎn)上，膠膜厚度不會(huì)隨勻膠時(shí)間延長(zhǎng)而變薄。

  勻膠加速度：勻膠過(guò)程中基片的加速度也會(huì)對(duì)膠膜的性能產(chǎn)生影響。因?yàn)樵诨D(zhuǎn)的*一階段，光刻膠就開(kāi)始干燥（溶劑揮發(fā)）了。所以準(zhǔn)確控制加速度很重要。在一些勻膠過(guò)程中，光刻膠中50%的溶劑就在勻膠過(guò)程開(kāi)始的幾秒鐘內(nèi)揮發(fā)掉了。在已經(jīng)光刻有圖形的基片上勻膠，加速度對(duì)膠膜質(zhì)量同樣起重要作用。在許多情況下，基片上已經(jīng)由前面工序留下來(lái)的精細(xì)圖形。因此，在這樣的基片上穿越這些圖形均勻涂膠是重要的。勻膠過(guò)程總是對(duì)光刻膠產(chǎn)生離心力，而恰恰是加速度對(duì)光刻膠產(chǎn)生扭力，這個(gè)扭力使光刻膠在已有圖形的周?chē)㈤_(kāi)，這樣就可能以另一種方式用光刻膠覆蓋基片上有圖形的部分。

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